投稿指南
一、来稿必须是作者独立取得的原创性学术研究成果,来稿的文字复制比(相似度或重复率)必须低于用稿标准,引用部分文字的要在参考文献中注明;署名和作者单位无误,未曾以任何形式用任何文种在国内外公开发表过;未一稿多投。 二、来稿除文中特别加以标注和致谢之外,不侵犯任何版权或损害第三方的任何其他权利。如果20天后未收到本刊的录用通知,可自行处理(双方另有约定的除外)。 三、来稿经审阅通过,编辑部会将修改意见反馈给您,您应在收到通知7天内提交修改稿。作者享有引用和复制该文的权利及著作权法的其它权利。 四、一般来说,4500字(电脑WORD统计,图表另计)以下的文章,不能说清问题,很难保证学术质量,本刊恕不受理。 五、论文格式及要素:标题、作者、工作单位全称(院系处室)、摘要、关键词、正文、注释、参考文献(遵从国家标准:GB\T7714-2005,点击查看参考文献格式示例)、作者简介(100字内)、联系方式(通信地址、邮编、电话、电子信箱)。 六、处理流程:(1) 通过电子邮件将稿件发到我刊唯一投稿信箱(2)我刊初审周期为2-3个工作日,请在投稿3天后查看您的邮箱,收阅我们的审稿回复或用稿通知;若30天内没有收到我们的回复,稿件可自行处理。(3)按用稿通知上的要求办理相关手续后,稿件将进入出版程序。(4) 杂志出刊后,我们会按照您提供的地址免费奉寄样刊。 七、凡向文教资料杂志社投稿者均被视为接受如下声明:(1)稿件必须是作者本人独立完成的,属原创作品(包括翻译),杜绝抄袭行为,严禁学术腐败现象,严格学术不端检测,如发现系抄袭作品并由此引起的一切责任均由作者本人承担,本刊不承担任何民事连带责任。(2)本刊发表的所有文章,除另有说明外,只代表作者本人的观点,不代表本刊观点。由此引发的任何纠纷和争议本刊不受任何牵连。(3)本刊拥有自主编辑权,但仅限于不违背作者原意的技术性调整。如必须进行重大改动的,编辑部有义务告知作者,或由作者授权编辑修改,或提出意见由作者自己修改。(4)作品在《文教资料》发表后,作者同意其电子版同时发布在文教资料杂志社官方网上。(5)作者同意将其拥有的对其论文的汇编权、翻译权、印刷版和电子版的复制权、网络传播权、发行权等权利在世界范围内无限期转让给《文教资料》杂志社。本刊在与国内外文献数据库或检索系统进行交流合作时,不再征询作者意见,并且不再支付稿酬。 九、特别欢迎用电子文档投稿,或邮寄编辑部,勿邮寄私人,以免延误稿件处理时间。

不只有光刻机,这五大半导体设备巨头掌控了全

来源:设备监理 【在线投稿】 栏目:综合新闻 时间:2021-03-25
作者:网站采编
关键词:
摘要:(全球TMT2021年3月25日讯)在芯片的生产过程中,有一类企业虽然没有直接参与,但却对整个行业技术的发展起着关键性作用,它们就是半导体设备制造商。芯片的制造流程极其复杂,大

(全球TMT2021年3月25日讯)在芯片的生产过程中,有一类企业虽然没有直接参与,但却对整个行业技术的发展起着关键性作用,它们就是半导体设备制造商。芯片的制造流程极其复杂,大致可以分为制备硅片、外延工艺、热氧化、扩散掺杂、离子注入、薄膜制备、光刻、刻蚀、工艺集成等。最广为人知的荷兰阿斯麦(ASML)就是主要生产光刻工艺的核心设备——光刻机。除此之外,刻蚀机、薄膜设备、扩散\离子注入设备、湿法设备、过程检测设备也是必不可少。正是通过这些设备制造商不断研发生产先进的设备,才使得芯片制造的效率效能大幅提高。

目前,全球半导体设备制造商基本由美日荷三国主导,结合美国半导体产业调查公司VLSI Research和Gartner的数据来看,美国应用材料(Applied Materials)、荷兰阿斯麦(ASML)、日本东京电子(TEL)、美国泛林集团(LamResearch)和美国科磊(KLA)多年来一直是该市场的领导者。

多元发展的半导体设备巨头——应用材料

美国应用材料公司(Applied Materials)成立于1967年,总部位于美国硅谷。创始人名叫Michael McNeilly,毕业于冈萨加大学化学系,曾在被誉为“硅晶体管先驱”金·赫尔尼(Jean Hoerni)创办的Union Carbide Electronics公司有机硅部门工作。后来自立门户成立了化学品公司Apogee Chemicals。1967年,由于与合伙人发生冲突McNeilly离开Apogee,并从岳父那借来7500美元作为启动资金成立了应用材料公司,生产半导体制造设备。值得一提的是,1967年美国半导体产业开始迅速发展,许多高管和人才开始从仙童半导体中跳出来创业,硅谷遍布着各种新成立的半导体器件制造商。而这类新兴半导体公司与传统巨头不同,它们没有内部生产能力,应用材料借此机会获得发展,在创立前几年应用材料的收入每年增长速度均超过40%。

在业务上,应用材料涉及薄膜设备、离子注入机、清洗设备、热处理以及前端检测设备。在技术上,应用材料通过收购集成新技术,保持市场领先。例如,1980年收购英国Lintott Engineering进入离子注入市场;2000年收购掩膜板制造供应商Etec Systems切入光罩图案生成解决方案等。2013年应用材料试图收购东京电子,但未获批准。应用材料也早早开始全球化布局。1979年,在日本成立分公司,正式进入亚洲市场。1984年,在北京设立中国客服中心,成为第一家进入中国的外资半导体生产设备供应商。2001年,将中国地区总部设立在上海。2020年,应用材料看好中国经济在疫情后的复苏前景,商讨在上海市临港区建设合资工厂。?应用材料在官网上介绍公司“已从一家小型初创企业转变为世界上最受尊敬的公司之一”,截至2021财年一季度,应用材料营收增长24%至51.6亿美元,创下新纪录,它已经成为全球半导体设备和服务供应巨头。

?风头正盛的明星企业——阿斯麦

阿斯麦(ASML)主要为半导体生产商提供光刻机及相关服务。光刻机,又名掩模对准曝光机,是光刻工艺的核心设备。在芯片的制造流程中光刻工艺可谓是最关键的一步,通过光刻可以确定芯片的关键尺寸,这一步骤也占据芯片整体制造成本的35%。随着英特尔、台积电、三星等企业进入以7nm等先进工艺为主打的量产时代,每个芯片生产商都希望尽可能多的购买光刻机来提升产能,这使得阿斯麦的风头正盛,营收等多项业绩指标连创新高。

而早在近40年前,阿斯麦还只是飞利浦旗下的一家小合资公司,当时光刻机的尖端技术掌握在美国GCA医疗技术公司和日本尼康手中。1984年,飞利浦和芯片机制造商Advanced Semiconductor Materials International(ASMI)成立了一家新公司,用以开发光刻系统。成立之初,阿斯麦的几十个员工就在荷兰埃因霍温飞利浦办公总部附近的一个棚子里工作,也是在如此简陋的条件下,阿斯麦推出了第一个光刻系统PAS 2000,获得市场的初步认可。1995年,阿斯麦在阿姆斯特丹和纽约证券交易所上市,飞利浦回购全部股份,阿斯麦成为一家完全独立的上市公司。

此后阿斯麦在两个“伯乐”的帮助下获得两次飞跃。20世纪初,阿斯麦与台积电合作研发一种被称作“浸润式光刻”的技术方案,并于2004年生产出第一台浸润式光刻机样机,这使其第一次在技术上赶超竞争对手尼康。2007年阿斯麦拿到光刻机市场60%的份额,首次在营收上超过尼康。早在1997年,


文章来源:《设备监理》 网址: http://www.sbjlzz.cn/zonghexinwen/2021/0325/888.html



上一篇:IDC:2020 年 Q4 中国智能家居设备市场出货量达
下一篇:日本政府呼吁全球设备制造商帮助瑞萨电子,加

设备监理投稿 | 设备监理编辑部| 设备监理版面费 | 设备监理论文发表 | 设备监理最新目录
Copyright © 2018 《设备监理》杂志社 版权所有
投稿电话: 投稿邮箱: