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领先全球的中国设备,地位堪比光刻机,成功打

来源:设备监理 【在线投稿】 栏目:综合新闻 时间:2021-03-29
作者:网站采编
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摘要:当下,就算是许多并不算了解半导体行业的人,相信对光刻机也有所耳闻。光刻机是芯片制造过程中所需的重要设备,芯片的最小制程与光刻机的精度有着至关重要的作用。但其实,除

当下,就算是许多并不算了解半导体行业的人,相信对光刻机也有所耳闻。光刻机是芯片制造过程中所需的重要设备,芯片的最小制程与光刻机的精度有着至关重要的作用。但其实,除光刻机外,还有一种设备非常重要,那便是刻蚀机,二者重要程度可以说是不相上下。

值得注意的是,比起在光刻机领域的落后,我国中微半导体公司的刻蚀机技术却在全球领先。据公开资料显示:中微半导体的创始人为尹志尧,他曾在美国半导体巨头应用材料有过13年的工作经验,耳顺之年的他于2004年创建了这家企业。

理论知识与实践经验兼顾的尹志尧在创立公司不久后,便取得了累累的硕果。2007年时,其成功研制CCP刻蚀设备,并顺利打入了海外市场。成立不久的中微半导体很快便跟上了业界水平,TSV/MEMS/Dicing刻蚀设备、45nm介质刻蚀设备相继从其手中问世,展现出了中微强大的研发实力。

中微半导体的成功,代表着中国又在一个领域打破了西方的垄断。在多年发展中,其产能逐渐扩大,在2005与2012年,中微半导体分别建成了6500㎡和22000㎡的厂房。到2015年时,中微半导体的反应台交付量已经成功达到了400台,其营收也进一步增长,成长速度令人瞩目。

而在近年来,中微半导体一直一步一个脚印立足于研发。从45nm介质刻蚀机到22nm,其用了2年的时间。从22nm到14nm也用了将近两年的时间。但是,从14nm到7nm其却用了不到一年的市场,便研制成功。而在2019年时,其5nm刻蚀机也顺利交付,为今年5nm芯片的问世注入了一份力量。

当前,中微半导体已经做到了领先全球,其在集成电路和泛半导体设备研制领域,都走在了业界的前列。同时,中微半导体的MOCVD设备与VOC净化设备也相当了得。在去年,中微半导体成功于科创板上市,为首批上市公司中的一员。自此,中微的发展又走到了一个新的阶段。

在2019年,中微半导体创下了19.47亿元的营收。其中,其净利润增长尤为迅猛,与去年同期相比,增长了107.51%,达1.89亿元。接下来,中微半导体又将有怎样的表现,十分值得期待。对于中微半导体,你怎么看呢?


文章来源:《设备监理》 网址: http://www.sbjlzz.cn/zonghexinwen/2021/0329/904.html



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