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全球半导体薄膜沉积设备规模不断扩大 但我国市
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摘要:半导体薄膜沉积设备,是指将原子吸附并在表面扩散及在适当的位置下聚结,以渐渐形成薄膜的设备,是晶圆制造的核心步骤之一。从沉积工艺来看,可分为原子层沉积(ALD)、物理式真
半导体薄膜沉积设备,是指将原子吸附并在表面扩散及在适当的位置下聚结,以渐渐形成薄膜的设备,是晶圆制造的核心步骤之一。从沉积工艺来看,可分为原子层沉积(ALD)、物理式真空镀膜(PVD)与化学式真空镀膜(CVD)三大类。目前来看,化学式真空镀膜(CVD)为主要沉积工艺,其占比高达57%。
半导体薄膜沉积设备沉积工艺介绍
资料来源:公开资料整理2019年全球半导体薄膜沉积设备市场格局
数据来源:公开资料整理从全球范围来看,近年来,全球半导体薄膜沉积设备市场稳步增长,市场规模不断扩大。数据显示,2019年全球半导体薄膜沉积设备市场规模为155亿美元,预计2020年将达到172亿美元,2025年将达到340亿美元。
2019-2025年全球半导体薄膜沉积设备市场规模及预测
数据来源:公开资料整理从全球竞争格局来看,全球半导体薄膜沉积设备市场主要由国外企业占据。细分来看,数据显示,2019年在全球CVD设备市场中,应用材料、泛林半导体与TEL三大厂商市场份额合计为70%;在全球PVD设备市场中,应用材料垄断市场,占比高达85%;在全球ALD设备市场中,TELASM二者市场份额合计为60%。
全球CVD设备市场竞争格局
数据来源:公开资料整理全球PVD设备市场竞争格局
数据来源:公开资料整理全球ALD设备市场竞争格局
数据来源:公开资料整理从国内范围来看,作为晶圆制造的核心步骤,半导体薄膜沉积设备对于推进集成电路制造有着不可忽视的作用,因此我国政府也陆续出台了一系列政策扶持半导体薄膜沉积设备产业发展。
我国半导体薄膜沉积设备产业相关政策
资料来源:公开资料整理但从上述数据可知,全球半导体薄膜沉积设备由国外企业占据,我国半导体薄膜沉积设备市场占比较低,产品国产化率仅为2%。因此,加速相关技术研发,实现半导体薄膜沉积设备国产替代,是我国半导体薄膜沉积设备行业发展的重中之重。
我国半导体薄膜沉积设备国产化情况
数据来源:公开资料整理从国内企业竞争情况来看,目前,我国半导体薄膜沉积设备行业龙头有北方华创和沈阳拓荆,近两年这两家公司不断加速技术研发,在技术储备以及客户认证方面取得了良好进展,或能带动行业国产率提升。数据显示,从长江存储近三年的国产半导体薄膜沉积设备企业中标数量与份额来看,北方华创与沈阳拓荆两家企业的市场份额不断扩大。
2017-2019年长江储存国产半导体薄膜沉积设备企业中标数量与份额
资料来源:公开资料整理(shz)相关行业分析报告参考《2020年中国半导体市场调研报告-产业规模现状与发展战略评估》。
文章来源:《设备监理》 网址: http://www.sbjlzz.cn/zonghexinwen/2021/0522/1086.html