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国产半导体设备再获突破，实现关键技术认证，
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摘要：国产半导体设备的突破 制造业是各大产业的基础，芯片半导体也不例外。只有通过制造，才能生产出许多设计精良的芯片。但外界并不知道，生产芯片需要大量的半导体设备。有些人可
国产半导体设备的突破
制造业是各大产业的基础，芯片半导体也不例外。只有通过制造，才能生产出许多设计精良的芯片。但外界并不知道，生产芯片需要大量的半导体设备。有些人可能只知道制造芯片的设备中有光刻机，但实际上光刻机只是冰山一角。
芯片制造过程需要经验数千的步骤，这些步骤不能用一台设备完成。例如，晶圆的曝光需要使用光刻机将硅片上的芯片电路图曝光。
还有蚀刻机对每一层集成电路进行蚀刻，保证晶体管之间稳定运行。
光刻机还在中国在28nm级别，刻蚀机已经达到了5nm级别。此前，中电科技旗下装备集团突破离子注入机，实现28nm全谱产品国产化。让中国半导体在离子注入工艺上有更充分的保障。
除此之外，国产半导体设备又取得了重大突破，半导体清洗工艺也取得了相应的进步。据国内半导体设备制造商智春科技介绍，28nm节点的湿法工艺设备均已通过认证。
智春科技实现了关键技术经认证，其生产的湿式设备主要用于半导体生产过程中的清洗，用于清洗硅片上的颗粒、氧化层、有机物等杂质。
这是芯片制造过程中的关键步骤，在整个生产步骤中占很大比例。
国产28nm和14nm有望顺利量产
随着纯技术湿法设备的供应，中国将更加有保障。智春科技的客户包括中芯国际，这也意味着它可以供应中芯国际。中芯国际不需要从国外进口相应的湿法清洗设备。
另外还有消息纯技术将于明年对14nm和7nm工艺进行客户验证。验证客户包括中芯国际、华为、华虹集团等。
市场对28nm的需求超过高端芯片。过去可能需要大量从国外进口成熟的工艺芯片，但随着我国半导体实力的不断提升，通过国内生产线基本可以满足国内需求。
行业判断，国内生产会2022年底前将实现14nm工艺芯片量产突破。 28nm也将在今年年底进入量产阶段。
这个消息出来的时候，还是有很大的不确定性。不过，眼看中电科技突破28nm离子注入机，完成了28nm技术节点的认证，上海微电子也即将交付28nm光刻机。
另外，中芯国际早早掌握了28nm工艺技术，实现国产28nm量产也不是不可能。等28nm实现量产，14nm国产化量产并不难。
国内芯片产业链崛起中
纯技术半导体设备的突破，让很多人看到了国产芯片的希望。一个公司的突破可能没有多大意义，但是很多产业链一起进步之后，结果就不一样了。
由此可见，国内芯片产业链正在崛起。从单纯依靠国外进口到国内自给自足，这一切进展都非常快。
第一个突破，会有第二次，第三次，直到解决所有技术问题。到时候，美国要对付中国半导体，也无济于事。所以，凭一己之力，任何危机都能应付，何必担心外国的行动呢？
期待越来越多的国内企业的参与，参与国内半导体产业链的发展，为中国芯片的崛起保驾护航。
总结
国产芯片已经有了一定的技术积累，在人才队伍、企业技术创新突破和产业化等方面都有相应的部署资源。 .智春科技只是国内芯片半导体中的一员，克服困难、突破国外技术壁垒的半导体企业数不胜数。
就目前的发展趋势而言，中国芯片的未来可以掌握在自己手中。不依赖国外技术也能站起来。国外不给我国提供芯片，设备无所谓。当我们将来自己建造它时，我们可能不想再将它卖给我们。
您如何看待智春科技半导体设备的突破？
文章来源：《设备监理》 网址: http://www.sbjlzz.cn/zonghexinwen/2021/0712/1397.html
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